青州市中拓鍍膜機械科技有限公司

光學鍍膜機的成膜特點介紹

2021-07-10 17:38:03

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光學鍍膜機的成膜特點介紹



光學薄膜是在高真空鍍膜腔中實現的。傳統的鍍膜工藝需要增加基底溫度(通常約300℃),而優良的技術,如離子輔助沉積(IAD)可以在室溫下進行。光學鍍膜機不但可以制備出比傳統鍍膜工藝具有更好物理性能的薄膜,而且可以應用于塑料基片上。傳統的薄膜沉積方法一直是熱蒸發、電阻加熱蒸發源或電子束蒸發源。薄膜的性質主要取決于沉積原子的能量,傳統的蒸發法只為0.1eV左右。IAD沉積導致電離蒸氣的直接沉積,并增加生長膜的活化能,通常約為50ev。離子源將離子槍的束流指向基片表面和生長膜,以改變傳統電子束蒸發的薄膜特性。

  薄膜的光學性質,如折射率、吸收率和激光損傷閾值,主要取決于光學鍍膜機的薄膜的微觀結構。薄膜的微觀結構受薄膜材料、殘余氣體壓力和襯底溫度的影響。如果蒸發原子在基底表面的遷移率很低,則薄膜將含有微孔。當這些毛孔被水蒸氣逐漸填滿時,這些毛孔就逐漸被水蒸氣填滿了。

  填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜總體積(包括空隙和微孔)的比率。對于光學薄膜,填充密度通常為0.75-1.0,大多數填充密度為0.85-0.95,很少達到1.0。當填充密度小于l時,蒸發材料的折射率低于體積材料的折射率。在沉積過程中,每個石英層的厚度都是由石英晶體的厚度來監控的。這里不討論這兩種技術的優缺點。它們的共同點是,當材料蒸發時,它們都是在真空中使用的。因此,折射率是真空中蒸發物質的折射率,而不是暴露在潮濕空氣中的折射率。薄膜吸收的水分取代了微孔和空隙,使薄膜的折射率增加。隨著薄膜厚度的增加,薄膜的折射率隨著波長的增加而保持不變。為了減少光學鍍膜機的薄膜中微孔的體積和數量引起的光譜漂移,利用高能離子將其動量轉移到蒸發的物質原子上,從而大大增加了材料原子在基底表面冷凝時的遷移率。


作者: 青州市中拓鍍膜機械科技有限公司

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